磷化铟、22398-80-7 CAS查询、磷化铟物化性质

   2024-10-25 1
导读

中文名称:磷化铟中文别名:磷化铟晶体INP;磷化铟(III);磷化铟, 99.9999% (METALS BASIS);磷化铟, 多晶块, 99.99% (METALS BASIS

 

 中文名称: 磷化铟  

 中文别名: 磷化铟晶体INP;磷化铟(III);磷化铟, 99.9999% (METALS BASIS);磷化铟, 多晶块, 99.99% (METALS BASIS);磷化铟, 99.999% (METALS BASIS);磷化铟, 多晶块;磷化铟(III), 99.9999% (METALS BASIS);磷化铟粉  

 英文名称: Indium phosphide  

 英文别名: InP;metel basisINDIUM PHOSPHIDE;INDIUM(III) PHOSPHIDE;Phosphinetriylindium(III);Phosphinidyneindium(III);Indium phosphide/ 99.999%;Indium phosphide (99.999%-In) PURATREM;Indium phosphide wafer  

 CAS号: 22398-80-7  

 EINECS号: 244-959-5  

 分子式: InP  

 分子量: 145.79  

 InChI: InChI=1/In.P  

 分子结构:  

 密度: 4,787 g/cm3  

 熔点: -1070°C  

 沸点: -  

 闪点: -  

 折射率: -  

 蒸汽压: -  

 物化性质: 磷化铟具有沥青光泽的深灰色晶体。熔点1070℃。熔点下离解压为2.75 Mpa。极微溶于无机酸。介电常数:10.8。电子迁移率:约4600 cm2/V?s。空穴迁移率:约150 cm2/V?s。具有半导体的特性。

磷化铟是重要的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料之一,是继硅(Si)、砷化镓(GaAs)之后的新一代微电子、光电子功能材料,其因电子迁移率高、禁带宽度大等特点,被广泛应用于微波及光电器件领域。  

 产品用途: 用作半导体材料,用于光纤通讯技术,需要1.1~1.6μm范围内的光源和接受器。在 InP衬底上生长In-GaAsP双异质结激光器既能满足晶格匹配,又能满足波长范围的要求。  

 危险品标志:  

 风险术语: -  

 安全术语: 避免接触皮肤、避免接触眼睛、如果发生事故或感到不适,请就医立即提出建议(如有可能,展示标签)、避免接触-使用前获得特殊说明

 
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