中文名称: 磷化铟
中文别名: 磷化铟晶体INP;磷化铟(III);磷化铟, 99.9999% (METALS BASIS);磷化铟, 多晶块, 99.99% (METALS BASIS);磷化铟, 99.999% (METALS BASIS);磷化铟, 多晶块;磷化铟(III), 99.9999% (METALS BASIS);磷化铟粉
英文名称: Indium phosphide
英文别名: InP;metel basisINDIUM PHOSPHIDE;INDIUM(III) PHOSPHIDE;Phosphinetriylindium(III);Phosphinidyneindium(III);Indium phosphide/ 99.999%;Indium phosphide (99.999%-In) PURATREM;Indium phosphide wafer
CAS号: 22398-80-7
EINECS号: 244-959-5
分子式: InP
分子量: 145.79
InChI: InChI=1/In.P
分子结构:
密度: 4,787 g/cm3
熔点: -1070°C
沸点: -
闪点: -
折射率: -
蒸汽压: -
物化性质:
磷化铟具有沥青光泽的深灰色晶体。熔点1070℃。熔点下离解压为2.75 Mpa。极微溶于无机酸。介电常数:10.8。电子迁移率:约4600 cm2/V?s。空穴迁移率:约150 cm2/V?s。具有半导体的特性。
磷化铟是重要的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料之一,是继硅(Si)、砷化镓(GaAs)之后的新一代微电子、光电子功能材料,其因电子迁移率高、禁带宽度大等特点,被广泛应用于微波及光电器件领域。
产品用途: 用作半导体材料,用于光纤通讯技术,需要1.1~1.6μm范围内的光源和接受器。在 InP衬底上生长In-GaAsP双异质结激光器既能满足晶格匹配,又能满足波长范围的要求。
危险品标志:
风险术语: -
安全术语: 避免接触皮肤、避免接触眼睛、如果发生事故或感到不适,请就医立即提出建议(如有可能,展示标签)、避免接触-使用前获得特殊说明