艾博AL-2000离子刻蚀（抛光/研磨/截面）仪_光学仪器_仪器设备_供应

一、产品特点：

1、加工面积大：样品尺寸：0~?25mm；

2、样品表面更均匀；

3、加工时样品表面能量低，特别对于薄膜、高分子样品（对温度敏感性高的样品）损伤小；

4、控制精度高，实验结果精准可控重复性高；

5、配备专用截面样品台；

6、可实现多种功能：离子减薄、等离子清洗、截面样品抛光、离子刻蚀、EBSD样品制备；

7、专用挡板；

8、制备单个样品可实现不同能量自动调整；

9、数字化自动控制系统。

二、技术参数：

1、真空度：极限真空度5*10-3Pa（不通氩气）；

2、*高压：（1）200~10000V；

3、样品台可旋转；

4、具有自保护功能；

5、双离子枪可独立控制；

6、样品冷却：半导体冷却（选配件）。

艾博AL-2000离子刻蚀（抛光/研磨/截面）仪