艾博AL-1000离子镀膜仪_光学仪器_仪器设备_供应

一、产品特点： 1、面积大：0~?25毫米、0~?50毫米；

2、溅射样品表面膜层更均匀；

3、颗粒度更小（3nm左右）；

4、溅射到样品表面能量低，对样品损伤小；（适用温度敏感性高的样品）

5、可以溅射各种固体靶材（如各种金属、陶瓷、碳等）；

6、控制精度高，实验结果精准可控重复性高；

  7、在同一真空腔内，可实现清洗和镀膜，降低污染样品造成的数据偏差；
  8、加入特殊气体，可进行反应离子束刻蚀；
  9、可实现的功能有：等离子清洗、镀膜等；
  10、数字化自动控制系统。

二、技术参数：

1、真空度：极限真空度5*10-3Pa（不通氩气）；

2、*高压：（1）200~6000V；

3、样品台可旋转；

4、具有自保护功能；

5、单离子枪；

6、样品冷却：半导体冷却（选配件）。

艾博AL-1000离子镀膜仪