以往的椭偏仪是单点测试，因此要取得整面膜厚均匀性数据是需要N个小时的工作，而且最小的测量分辨率就是激光光斑大小，也就是说，无法取得微小区域的膜厚分布数据。
ME-210是采用独自开发的微小偏光阵列片来克服上述两大问题的设备。
ME-210能做的就是：
能以快速取得最大12inch基板上的膜厚分布
能以高分辨率取得微小区域的膜厚分布（设备最高分辨率为5.5um*5.5um）
设备软件具有模拟功能，因此能比对模拟值与实际值来评估成膜工艺
透明基板的膜厚测量
技术参数：
光源--typ，636nm，Class2
设备最高分辨率--5.5*5.5um
入射角--70°
测量再现性--膜厚0.1nm、折射率0.001
设备最块测量速度--5,000个点/min
载物台--标准φ8inch、选配φ12inch
面议
