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ME-Mapping光谱椭偏仪
2024-07-13 12:13IP属地 广东20询价
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| 品牌 |
颐光科技 |
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产品详情
一、概述SE-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪，采用行业前沿创新技术，配置全自动Mapping测量模块，通过椭偏参数、透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。■全基片椭偏绘制化测量解决方案；■ 支持产品设计以及功能模块定制化，一键绘制测量；■ 配置Mapping模块，全基片自定义多点定位测量能力；■ 丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力二、产品特点
ngstyle="background-color:rgb(251,251,251);color:rgb(63,63,63);font-family:微软雅黑;font-size:12px;white-space:normal;">■ 采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围(193-2500nm)；ngstyle="background-color:rgb(251,251,251);color:rgb(63,63,63);font-family:微软雅黑;font-size:12px;white-space:normal;">■ 高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集；ngstyle="background-color:rgb(251,251,251);color:rgb(63,63,63);font-family:微软雅黑;font-size:12px;white-space:normal;">■ 具备全基片自定义多点自动定位测量能力，提供全面膜厚检测分析报告；ngstyle="background-color:rgb(251,251,251);color:rgb(63,63,63);font-family:微软雅黑;font-size:12px;white-space:normal;">■ 数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料；
三、参数规格
四、产品应用广泛应用OLED，LED，光伏，集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。
