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光栅尺寸无损检测仪（散射仪）
2024-07-13 12:16IP属地 广东00询价
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面议 |
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| 品牌 |
TeraNova |
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产品详情
1、产品简介
荷兰TeraNova公司的光栅尺寸无损检测仪是一款针对工业客户的大范围、快速、无损光栅尺寸检测设备。该设备利用光的散射原理，可以无损、快速检测被测光栅的周期（pitch）、线高（Height）、占空比（DC）、边缘角（Side-wallAngle）、残余层厚度（RLT）、折射率（Diffractiveindex）等数据。特别适合AR/VR光学镜头表面光栅图形的无损检测。2、检测原理
光源的入射光线在物镜（Objectivelens）的后焦平面（Back-focalplane）聚焦，通过物镜后产生准直平行光（Collimatedlight）照射样品表面。通过调整入射光线在后焦平面的聚焦位置（Δ）来调整准直平行光照射样品表面的角度。照射样品表面的准直平行光发生衍射，形成不同光强的衍射级（Diffractedorders），收集不同入射角度（Incidenceangle）对应产生的不同衍射级信号，与数据库信息进行拟合，就可以对被测样品进行评估并得到被测样品的几何参数信息。3、主要技术参数
n 关键尺寸灵敏度：＜2nm；n 空间分辨率：50μm；n 每个点扫描时间：15s-30s；n 照射角度范围：-40°-40°；n 仪器尺寸（高度-长度-宽度）：1.8mÍ0.9mÍ0.5m；n 最小晶圆厚度：0.3mm；n 晶圆尺寸（直径）：最大300mm；n 基底兼容性：透明或不透明；n 晶圆装载方式：手动或自动；
4、与扫描电镜（SEM）检测方法对比 待测样品由荷兰SCIL公司的AutoSCIL型纳米压印系统加工，使用SCIL公司的NanoGlass™无机光刻胶，光栅周期（Pitch）约为380nm，残余层厚度（RLT）约为47nm，线高（Height）约为102nm。通过将检测值与数据库信息拟合，得到样品几何参数。 测试结果对比：检测方法样品几何参数
周期（Pitch）线高（Height）残余层厚度（RLT）占空比（DC）
TeroNova光栅尺寸无损检测仪385nm102nm47nm42.5%
SEM382nm97nm42nm43% 结论：通过两种不同检测方法测得的样品几何参数的对比可以看出，采用TeroNova光栅尺寸无损检测仪测得的数据与SEM无明显差异，但由于TeroNova光栅尺寸无损检测仪具有大范围、快速、无损检测的特点，使其更适合应用于工业领域。
5、应用案例-光栅关键尺寸（CD）空间点阵扫描样品尺寸：25mmÍ25mm
光栅周期（Pitch）：380nm线高（Height）：96nm光栅制备方法：基底保形纳米压印（SCIL）
1） 光学显微镜和电子显微镜下的被测样品
2） 同一测量点，入射光TE方向偏振和TM方向偏振的入射角与对应光强分布的测量值与数据库拟合结果
3） 光栅样品的线高和边缘角的数据及其分布情况
