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百及纳米ParcanNano电子束光刻机P21（多功能超高精度电子束光刻机P21）

2024-07-13 12:26IP属地广东00询价

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发货	广东东莞市预售，付款后7天内
品牌	百及纳米
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产品详情

电子束光刻机（多功能超高精度电子束光刻机P21）

依托垄断性专利技术，百及纳米推出国际领先的超高精度大面积写场电子束光刻机P21系列。百及纳米首次开发了新一代电子束光刻机的电子束闭环控制新原理。百及超高精度电子束光刻机P21是第一款新一代电子束光刻机的代表，在著名电子束光刻机制造商德国Raith公司的成熟机型上升级而成。该系列主要包括P21-2，P21-4和P21-6三个型号，区别主要在于样品尺寸（2，4，6英寸晶圆）及扩展使用功能。P21不仅完整地保留了原电子束光刻机的整体功能，且集多项国际领先的关键指标于一身，包括：

ngstyle="margin:0px;padding:0px;"> •国际上首次开发的新颖电子束闭环控制系统，能够实现电子束的原位检测与校正;

ngstyle="margin:0px;padding:0px;"> •国际领先的写场拼接精度≤2nm;

ngstyle="margin:0px;padding:0px;">•电子束光刻的长期稳定性。精确校正电子束的空间漂移，将其位置稳定性提高到≤10nm/h；有利于通过提高电子束光刻时间实现大尺寸图形的曝光需求。

百及纳米的P21系列以常规电子束光刻机为载体，通过独家专利技术对其进行功能及性能指标的大幅提升。P21光刻机组件均为德国原装制造，以高品质、高性能满足客户的科研高端需求，实现新一代超高精度电子束光刻功能。

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