产品特点
MEMS制造工艺中，Si材料光滑侧壁的高速高选择比刻蚀，可以很容易的通过室温或低温工艺实现。
详细介绍
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德国SENTECH电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统 SI500
00IP属地 广东
| 价格 | ￥99999.00 |
| 发货 | 广东东莞市付款后24小时内 |
| 数量 | -+ |
| 库存 | 10件起订1件 |
商品详情
SI500Simple high rate etching 简单高速率刻蚀
MEMS制造工艺中，Si材料光滑侧壁的高速高选择比刻蚀，可以很容易的通过室温或低温工艺实现。
MEMS制造工艺中，Si材料光滑侧壁的高速高选择比刻蚀，可以很容易的通过室温或低温工艺实现。
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