详细介绍
产品介绍：
LOR
双层Lift-off专用光刻胶。
高分辨，可用于<0.25μm lift-off 工艺
适合剥离金属厚度<20nm - >5μm.
undercut 结构可控，溶解速率易于调节
在Si, NiFe, GaAs, InP和其它III-V材料上有良好的粘附力.
与g-, h-, i-line, DUV, 193nm和E-beam光刻胶等兼容.
良好的耐热稳定性
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光刻胶
20IP属地 广东
| 价格 | ￥99999.00 |
| 发货 | 广东东莞市付款后24小时内 |
| 数量 | -+ |
| 库存 | 10件起订1件 |
商品详情
LOR
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