宽束氩离子抛光系统Gatan697IlionII

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1、 离子枪：两个配有稀土磁铁的三元构造（阴极、阳极与聚焦极）潘宁离子枪，聚焦离子束设计,高性能无耗材

2、 抛光角度ngstyle="white-space:normal;">：+10°到-10°，每个离子枪可独立调节

3、 离子束能量ngstyle="white-space:normal;">：100V到8.0kV

4、 离子束流密度ngstyle="white-space:normal;">：10mA/cm2峰值

5、 抛光速度ngstyle="white-space:normal;">：300μm/h（8.0kV条件下对于硅试样）

4.2样品台

6、 样品装载： Ilion专利的样品挡板,装样简单，再次抛光位置准确，可重复使用，配合SampleStub可直接转至SEM中观察

7、样品旋转：0.5到6rpm连续可调

8、束流调制：独特的离子束调制功能，可进行扇形截面抛光（扇形角度为10到90度可调）和平面抛光。

9、样品观察：数码变焦显微镜，配有PC及DigitalMicrograph软件采集图像，通过GatanDigitalMicrograph软件可进行实时成像（300x–2,200x）与图像存储和分析

10、液氮冷台：配置液氮冷台，样品最低温度可达-120°C,有效减少离子束对样品造成的损伤

4.3真空系统

11、干泵系统：两级隔膜泵支持80升/秒的涡轮分子泵

12、压力：5x10-6托基本压力，8.5x10-5托工作压力

13、真空规：冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵

14、样品空气锁： 独特的Whisperlok设计，样品更换时间<1Min，无需破样品室真空

4.4用户界面

15、10英寸触摸屏： 操作简单，且能够完全程序化控制所有参数可进行配方操作。

16、配方操作模式：自定义不同的加工参数组合，实现一键操作。