150RPlus镀金镀碳仪

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主要特点: 

●金属溅射或碳蒸发一体化设计，节省空间

●适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用

●涡轮分子泵高真空系统，适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材

●全自动触摸屏控制，快速数据输入，操作简单

●可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想

●预编程自动真空控制

●使用膜厚监控选件精确控制膜厚

●智能系统识别，自动感知用户所插入镀膜头的类型

●高真空碳蒸镀，对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想

●先进的碳棒蒸镀枪设计和电流控制技术，操作简单，重现性好

●Drop-in式快速换样品台（标配旋转台）

●真空闭锁功能，让工作腔室在待机使用时亦处于真空状态

●不破坏真空条件下的溅射时间可长达60分钟，适合材料科研应用

●人体工程学设计，整体成型机壳，维护、拆装容易

技术参数:  

●工作腔室：165mm外径x127mm高

●触摸屏全图像用户界面

●靶材：标配直径57mmx厚0.1mmAu靶

●样品台：标配旋转台，直径60mm，转速8-20rpm，可选配旋转倾斜台。

●真空系统：双程旋转机械泵

●极限真空度：2x10^-2mbar

●溅射真空度：3x10^-2mbar与5x10^-1mbar之间

●溅射电流：0-80mA

●溅射时间：最长60分钟

●碳蒸发：稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保碳棒可重复蒸碳，电流脉冲1~90A。

●尺寸和重量：仪器机箱585mm宽x470mm长x410mm高(总高:650mm)