徕卡低真空镀膜仪LeicaEMACE200

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徕卡真空镀膜仪

在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备网格支持膜，以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。LeicaEMACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。

LeicaEMACE200‍‍ 是一款高品质台式镀膜仪，用来制备电子显微镜所需的均匀的金属导电膜或碳膜。这款自动化设备既可以配置成溅射镀膜仪又可以配置成碳丝蒸发镀膜仪。或者，根据需要，LeicaEMACE200可以在一台设备上装配可调换镀膜源，实现两种镀膜方式。

另外可选配功能有：

★★★石英片膜厚监控--用于制备可重复性镀膜

★★★ 行星旋转样品台--用于对裂纹型样品喷镀均匀镀膜

★★★ 辉光放电功能--使TEM网格亲水化