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品牌： |
IDONUS |
所在地： |
广东 东莞市 |
起订： |
≥1 PCS |
供货总量： |
未填 |
有效期至： |
长期有效 |
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反应室温度控制
在反应室内，二氧化硅的腐蚀速率随液体HF的温度略有变化。氢氟酸的温度取决于洁净室的环境温度。此外，在长时间的蚀刻过程中，HF会被加热，导致晶圆之间的蚀刻速率增加，直到系统稳定下来。为了稳定腐蚀速率，我们在容器中开发了一个温度可控的HF反应室。高频的温度可以通过附加的控制器来调节。
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