EMPro多入射角激光椭偏仪_光学仪器_仪器设备_供应

产品详情

基本参数

品牌：	赛凡光电
所在地：	广东东莞市
起订：	≥1 PCS
供货总量：	未填
有效期至：	长期有效

详细说明

EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。
EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。
EMPro采用了量拓科技多项专利技术。

特点ntsize="4">：

原子层量级的极高灵敏度
百毫秒量级的快速测量
简单方便的仪器操作

ntsize="4">应用：

EMPro适合于高精度要求的科研和工业产品环境中的新品研发或质量控制。EMPro可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。EMPro可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。

技术指标：

项目

技术指标

仪器型号

EMPro31

激光波长

632.8nm(He-NeLaser)

（^1）膜层厚度精度

0.01nm(对于平面Si基底上100nm的SiO₂膜层)

（^1）折射率精度

1x10^-4(对于Si基底上100nm的SiO₂膜层)

单次测量时间

与测量设置相关，典型0.6s

结构

PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度）

激光光束直径

1mm

入射角度

40°-90°可手动调节，步进5°

样品方位调整

Z轴高度调节：±6.5mm
二维俯仰调节：±4°
样品对准：光学自准直和显微对准系统

样品台尺寸

平面样品直径可达Φ170mm

最大的膜层范围

透明薄膜可达4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关

最大外形尺寸

887x332x552mm(入射角为90º时)

仪器重量（净重）

25Kg

选配件

水平XY轴调节平移台
真空吸附泵

软件

ETEM软件：

中英文界面可选；
l多个预设项目供快捷操作使用；
l单角度测量/多角度测量操作和数据拟合；
方便的数据显示、编辑和输出
丰富的模型和材料数据库支持

注：(1)精度：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。

性能保证：

高稳定性的He-Ne激光光源、先进的采样方法以及低噪声探测技术，保证了高稳定性和高准确度
高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准
稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量
分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量
一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用

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