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1、离子平面抛光和离子切割一体化技术，一套系统实现两种模式，无需复杂的切换流程，简洁方便。
2、动态离子切割技术，实现样品的往复平移和旋转，最大切割长度达10mm，有效减少投影/遮挡效应。
3、超大的平面抛光装载尺寸25X25mm(直径x高)，为原位实验等大尺寸样品提供可能。
4、能量0.5-10kv连续可调，既可满足低能区减少非晶层，又可兼顾高能区大幅提高制样效率。
主营：www.yunshiji.cn
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