·洁净度100级、氧浓度低于20ppm的气氛炉,主要应用于固化半导体晶圆等。
·最高工作温度360℃和500℃。
·采用耐热高性能高效过滤器,可在洁净的环境下进行高温烘烤。
·高气密性的压力箱构造,氧浓度到达时间短,N2消耗量极低。
·磁密封保持高气密性,采用水冷机构保护密封部件免受热量影响。
·可实现快速升温和降温,升降温速率可调节。
·标准装备有废液回收装置,对气体进行冷却回收。
·拥有门检测开关、温度过升防止器、氧浓度异常安全装置、氮气压力检测、氮气流量检测、冷却水流量检测、漏水传感器、过电流漏电漏电保护开关等安全功能。



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