- 详细介绍
技术参数:
HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser),适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。
应用:
CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
真空涂覆/ 等离子刻蚀
沉积溅射
污染物研究
基本压力辨别
泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析
除气/烘烤/泵效能
反应室/过程气体污染物
特点:
简洁的桌上型,移动推车或控制台架结构
Direct re-entrant流孔板,差式泵,以达到最适宜的灵敏度
连续取样从10-4mbar至1mbar.
高灵敏度(zuiyou可至5ppb),质量数可选至1000amu
软离子化技术,分析复杂有机物,或表观MS研究
稳定性好(24h之上,峰高变化小于±0.5%)
MASsoft软件控制,或由局域网进行多个系统控制
气动阀自动控制;出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置
自动、同时数据取得、分析,实时显示、报警