Nanoscribe Quantum X align对准双光子光刻系统

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全新Quantum X align对准双光子光刻（A2PL®)系统通过新添加的高精度对准功能实现了对高精度结构的放置，增强了Nanoscribe已受大众认可的三维微纳加工技术。这款具备纳米级精度对准3D打印功能的最高分辨率打印设备利用A2PL技术，自由曲面微光学原件可以以亚微米精度对齐打印到光纤或光子芯片光轴上。可应用于生产用于光子集成和封装或小型化成像光学器件的高效光学互连，例如用于微创内窥镜检查等。

• 通过对准双光子光刻技术（A2PL）实现高性能3D微纳加工

• 在光纤上进行3D打印: 基于纤芯检测功能实现在光纤表面精确对准打印

• 在芯片上进行3D打印: 基于3D基底拓扑构图在芯片表面或刻面上精确对准打印

• 3D对准技术：自动检测和三个旋转轴上衬底倾斜补偿

• 高速微纳加工智能切片

• 基于双光子聚合（2PP）的高精度3D打印