产品特点
· 针对高深宽比的沟槽或孔洞结构,采用特制的长针尖提供微纳米结构的三维形貌准确测量,
· 可升级至多针尖并行测量模式,大幅提高微纳结构表征的范围和效率,
· 可升级为基于针尖光刻的微纳米结构高性能加工系统,大气环境下快速直写5nm以下结构。
详细介绍

产品简介
基于专 利的、源自德国的主动式针尖技术,百及纳米科技开发了下一代工业智能型原子力显微镜系统,针对工业领域应用提供快速、智能的样品形貌表征,适用于工业型检错、质量评定和量化测量等,尤其适用于检测大尺寸晶圆或光学晶圆。
系统集成了大尺寸样品位移台、全自动光学导航系统和配套自动控制软件,可对大尺寸样品进行的光学成像定位,根据光学成像结果自动标定多个准确测量区域,并根据缺陷/待测结构的特点进行模式识别,智能选取原子力显微镜测量参数,在样品多个位置间自动移动,进行可重复的高分辨率测量,生成检测书面报告,整个过程无需人工参与,实现对大尺寸样品形貌的智能化、自动化的高速、高质量纳米级测量。
产品特点:
· 顶 级自动化功能、测量过程无需激光调节、即插即用式针尖更换方案、快速自动进针,
· 针对高深宽比的沟槽或孔洞结构,采用特制的长针尖提供微纳米结构的三维形貌准确测量,
· 可升级至多针尖并行测量模式,大幅提高微纳结构表征的范围和效率,
· 可升级为基于针尖光刻的微纳米结构高性能加工系统,大气环境下快速直写5nm以下结构。
功能指标
样品尺寸 | 100 mm x 100 mm (4英寸) 至 300 mm x 300 mm (12英寸) |
成像分辨率 | 优于1 nm (水平方向:0.3 nm, 垂直方向:0.2 nm) |
样品台定位精度 | 运动精度优于1nm,重复精度优于10nm,采用闭环回路定位准确控制。 |
单场扫描范围 (X, Y, Z) | 35μm x 35μm x 10μm (备选: 100μm x 100μm x 30μm) |
测量模式 | 1. 非接触式(形貌、相位、误差) 接触式&力曲线 2. 扩展模式(导电探针(C-AFM)、开尔文探针力显微镜 (KPFM)、磁力显微镜 (MFM)、扫描针尖光刻 (SPL)等) |