德国应用光谱Plasma Emission Messurement System白光干涉膜厚仪

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等离子体发射测量

在紫外线…近红外线范围可同时观察到等离子发射

低压等离子沉积技术是一个客观的连续不断的过程，如PVD（物理气象沉积）是今天真正的问题之一。除了等离子体发射光的表观检查，有时也使用质谱技术。但是质谱技术既不方便操作，其结果也不容易理解。与此相比，使用OES（发射光谱）和光纤耦合TranSpec光谱仪的有点是显而易见的。

技术特征

在200…1000nm光谱范围内可同时测量

可检测非常底的发射信号

可连接到几乎每个真空室

无需维护

舒适和易于使用的PEMProVis专业版软件

用于全球主要的汽车灯以及CD生产商进行有机膜厚测试